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製品情報 - PRODUCTS

フォトマスク関連製品

CD測長装置/ Muetec(独国)社製

  • フォトマスク業界の標準設備として数多くの実績を持つ
  • 光学式CD測長(透過照明&反射照明)、旧LWMの新型版
  • LED照明のため、長寿命でありランプ交換等数年間不要
  • 最小線幅0.36µmまで測定可能。X150UVレンズを使用

マスク用修正装置/COWIN(韓国)社製

  • FPD用としてG10まで半導体用として5, 6, 7, 9インチ対応
  • ZAP、CVD、ハーフトーンCVDが可能。KrF/ArFに対応
  • 0.5um以下の高精細ZAPと密着性高いCVD性能が特長
  • AGV/MGVと連動、RSP+ロボット搭載可能

マスク描画装置/Artfil社製

  • DMDを用いLED光源を搭載した高速・高精細描画装置
  • 最小線幅0.5um実現し、従来より数倍の高速描画が可能
  • CD補正/OPC補正/アライメント機能等を標準装備
  • 描画方式はすでに特許を取得、数多くの新技術搭載

マスク座標測定機/Artfil社製

  • FPD用及又は半導体用マスクに対応した座標測定装置
  • 高精細リニアスケールを採用、環境に強い安定した測長
  • ナノメータオーダーの再現性と高速測定を実現
  • AGV/MGVと連動、RSP+ロボット搭載可能

プロセス関連製品

コータ装置・塗布装置

  • フォトマスク用レジストコート向けカスタムメイド装置
  • スピン式/スリット式塗布に対応し、枚葉式も対応可能
  • FPD用/LSI用マスクに対応、FPD基板やウエハーに対応
  • 塗布性能は1%以下の均一性を実現し、多くの実績を持つ

ウェットプロセス機器(ベーク・現像・エッチング・剥離等)

  • EBR/ベーク/真空乾燥等と連動したプロセスライン提供
  • カスタムメイドで各プロセスを構成した装置群を提供
  • 半導体用マスクから液晶用(G8)マスクまで対応可能
  • 安定した装置を廉価に提供し、数烏多くの実績を持つ

マスク・基板洗浄装置

  • マスクブランクやベアーガラス基板の洗浄に最適
  • 半導体用マスクからFPD用のG10マスクまで対応可能
  • ブラシ/超音波/薬液洗浄、ディップ/スピン/枚葉式提供
  • 液晶用や特殊基板/ガラス材料の特殊対応可能

半導体関連製品

AMCモニター機器/Tricorntech(台湾)社製

  • 有機物/無機物の検出、VOC/アミン系/酸系ガス等に対応
  • リアルタイムモニター測定にてIn-lineで24H自動運転制御
  • マルチチャンネルモニター機器やモバイル式機器を提供
  • 0.1ppbレベルの測定センサーと非放射性コア技術を搭載

FOUP内モニター機器/Tricortech(台湾)社製

  • FOUP内AMCをモニター/分析、ウェハーガス汚染分析用
  • N2パージにてFOUP内洗浄機能搭載、安定した測定性能
  • ロードポートやSECS等通信機能搭載、FOUP管理に最適
  • 廉価なコスト、国内にて迅速な技術サポートを提供

ウェハー用マクロ検査装置/MueTec(独国)社製

  • 200㎜/300㎜ウェハー量産対応のマクロ検査装置
  • ウェハーの表面/裏面を同時に測定可能な光学設計
  • 2um分解能で、ブライト/ダークフィールド両方測定可能
  • カセット/FOUP対応、独自アライメント機能で高速処理

オーバーレイ測定装置・IR検査装置/MueTec(独国)社製

  • MEMS, PD, WLPの内部の重ね合わせ測定装置
  • 高精度/高速測定にて6, 8, 12インチ生産ライン向け装置
  • CD測長/重ね合わせ測定/IR検査等、1台多機能装置提供
  • 数多くの実績を持ち、廉価なコスト、安定した装置提供

レーザ関連装置

FMM(ファインメタルマスク)レーザ修正装置/COWIN(韓国)社製

  • O-LED用メタルマスクの加工/検査/ドライ洗浄機能装置
  • 高出力レーザとガルバノミラーにて高速加工処理可能
  • エマルジョンマスク修正、インクジェット式修正も可能
  • 量産用マルチ修正装置は、数多くの実績持ち安定供給

3Dレーザ造形装置/Riton(中国)社製

  • 金属/プラスチック/義歯材料等の3次元造形プリンター
  • 特に口腔分野に数多くの実績をもつ高性能3Dプリンター
  • 造形範囲200㎜□にて、50um以下の精度で造形可能
  • 高速処理且つ廉価のコスト/短納期で装置提供

3次元測長装置/TZTEK(中国)社製

  • ワークサイズ合わせた各種モデルを選択可能な3次元測長機
  • 最大ワークサイズ1600X1200 X250mm。それ以上は特注
  • リニアスケール/THKガイドを採用し、0.1umの分解能
  • 安定した測定を、短納期・低価格で提供

電子材料(サファイア基板・石英基板)

  • サファイア基板のベア/μPSSパターン付基板供給
  • サファイア/Siウエハーは、2”、4”、6”、8”供給可能
  • 石英材は再生石英含め、要求に合わせて供給可能
  • 少量多種の要求、特殊仕様に対応、廉価コストで提供

セキュリティーIP(産業機械・ロボット・ユーティリティー向け)

  • 生産設備・ロボット工作機械・ユーティリティーに適用
  • 内外部からのサイバー攻撃から機器を完全にプロテクト
  • 操作ミス・SWアップデートの安全に実行可能
  • 国際的安全基準取得に不可欠なIP技術